四氟化二磷在半导体工业中的应用有哪些？

四氟化二磷在半导体工业中主要用作刻蚀剂和电子束光刻胶的增稠剂。

1. 刻蚀剂：四氟化二磷可以与氧气反应生成PF3、PF5等氟化物，这些氟化物可以与硅 dioxide 等材料发生化学反应，在刻蚀过程中可以实现高精度的图案转移。因此，四氟化二磷被广泛用于半导体工业中的刻蚀工艺，如制造晶圆上的微细通道和孔洞等。

2. 电子束光刻胶的增稠剂：在电子束光刻技术中，需要将粘性较低的液态光刻胶涂覆在硅片表面，并通过电子束照射来形成微细图形。然而，液态光刻胶很容易在照射前就流动或扩散，从而破坏所需的图案。四氟化二磷可以作为增稠剂添加到光刻胶中，提高其黏度和粘度，从而防止其流动和扩散，确保形成所需的图案。

总之，四氟化二磷在半导体工业中主要应用于刻蚀工艺和电子束光刻技术，可以实现高精度的图案转移和微细图形的制造。