四碘化硅和四氟化硅熔点

四碘化硅（SiI4）的熔点是125°C，四氟化硅（SiF4）的熔点是-90°C。这些化合物的熔点取决于它们的分子结构和相互作用力。四碘化硅和四氟化硅都是半导体材料，它们的晶体结构和化学性质不同，因此其熔点也有所不同。

四碘化硅分子结构为正四面体型，每个硅原子被四个碘原子所包围，形成了强的共价键。这种分子结构使得四碘化硅的分子间相互作用力较强，需要高温才能克服分子间的吸引力，导致其熔点较高。

四氟化硅分子结构为三角双锥型，每个硅原子被四个氟原子所包围，形成了弱的范德华力。这种分子结构使得四氟化硅的分子间相互作用力较弱，只需要低温就能克服分子间的吸引力，导致其熔点较低。