甲硅烷的生产方法

甲硅烷的生产方法通常包括以下两种：

1. 热解法：将硅和甲烷在高温下进行反应，生成甲硅烷和氢气。反应方程式为Si + 2CH4 → SiH4 + 2H2。

2. 化学气相沉积（CVD）法：在低压条件下，将甲硅烷和其他气体（如氧气、氮气等）一起进入反应室，在衬底表面沉积出薄膜，同时生成氢气和其他副产物。这种方法一般用于半导体工业中生产薄膜。