四氢化锗在半导体行业中的应用有哪些？

四氢化锗（GeH4）是一种无色、易燃、有毒的气体，在半导体行业中有以下应用：

1. 外延生长：GeH4可用于外延生长中的原子层沉积（ALD）和分子束外延（MBE），用于制造高质量的锗薄膜。

2. 清洗：GeH4可以作为清洗气体，去除制造过程中产生的杂质和残留物。

3. 气相输运：GeH4可用于在半导体制造过程中将锗输送到其他步骤中。

4. 质子注入：GeH4可以用于在半导体器件中注入质子，以改变材料的电学性能。

需要注意的是，由于GeH4是一种有毒气体，必须采取严格的安全措施，确保操作人员和环境的安全。