锗和氢的反应

锗和氢的反应可以通过以下化学方程式表示：

Ge + H2 → GeH4

这是一种还原反应，其中锗（Ge）与氢气（H2）在高温下反应，生成四氢化锗（GeH4）。该反应通常在石英反应器中进行，并在高温（约700-800°C）和高压（10-20 atm）条件下进行。

在反应开始时，锗表面可能会形成氧化物层。为了避免这种情况，通常需要将锗表面清洁干净。一般而言，先用稀酸处理锗表面，然后使用氢气将其还原。

此反应是有用的工业过程之一，因为GeH4具有各种应用，例如作为材料表面处理剂和生长半导体材料的前体。