四氟化氙在半导体工业中的应用有哪些？

四氟化氙（XeF4）在半导体工业中有多种应用，包括：

1. 硅通孔刻蚀：XeF4可以与硅表面反应生成氟化硅酸，这种化合物可溶于水，并可在制造半导体时通过湿法清洗去除。因此，XeF4被广泛用于制造硅通孔，即将硅片上准确地刻出小孔以进行电路连接。

2. 外延生长掩模刻蚀：外延生长是一种制造半导体材料的方法，其中尺寸微小的晶体在硅基底上生长。XeF4可用作外延生长过程中的掩膜刻蚀剂，通过将其涂在掩膜上并暴露于紫外线下来实现。

3. 金属污染清除：在半导体加工过程中，可能会发生金属污染，这会影响器件的性能和可靠性。XeF4可以用作金属污染清除剂，在半导体器件的制造和维护中被广泛使用。

需要注意的是，由于XeF4具有高度的腐蚀性和毒性，必须严格遵守相关安全规定和操作要求。