碲化钼的生产方法

碲化钼的生产方法主要包括以下两种：

1. 化学气相沉积法（CVD法）：将MoCl5和TeCl4等化学气相沉积物质混合在一起，并在高温下（通常为600-800°C）将混合气体输送到衬底上，形成碲化钼薄膜。

2. 机械合成法：将Mo和Te的粉末按照一定的比例混合均匀，然后在高温高压下进行反应，形成碲化钼粉末。

其中，CVD法生产的碲化钼薄膜具有优异的薄膜均匀性和纯度，可用于制备光电器件等高端产品；机械合成法生产的碲化钼粉末则可以用于制备复合材料、催化剂等产品。